Rosja ujawniła nową mapę drogową rozwoju technologii litografii EUV o długości fali 11,2 nm, która ma obejmować okres do 2037 roku. Projekt zakłada trzy etapy rozwoju – od budowy maszyny zdolnej do pracy w litografii 40 nm w 2026 roku, aż po systemy sub-10 nm w latach 2033–2036. Za opracowanie planu odpowiada Instytut Fizyki Mikrostruktur Rosyjskiej Akademii Nauk, a sama koncepcja znacząco różni się od rozwiązań stosowanych przez ASML. Rosjanie nie chcą kopiować istniejącej architektury, ale oprzeć się na alternatywnych […] Rosja przedstawia plan rozwoju maszyn litograficznych EUV do 2037 roku
Zdjęcie: Rosja przedstawia plan rozwoju maszyn litograficznych EUV do 2037 roku
Rosja ujawniła nową mapę drogową rozwoju technologii litografii EUV o długości fali 11,2 nm, która ma obejmować okres do 2037 roku. Projekt zakłada trzy etapy rozwoju – od budowy maszyny zdolnej do pracy w litografii 40 nm w 2026 roku, aż po systemy sub-10 nm w latach 2033–2036. Za opracowanie planu odpowiada Instytut Fizyki Mikrostruktur Rosyjskiej Akademii Nauk, a sama koncepcja znacząco różni się od rozwiązań stosowanych przez ASML. Rosjanie nie chcą kopiować istniejącej architektury, ale oprzeć się na alternatywnych […]
Rosja ujawniła nową mapę drogową rozwoju technologii litografii EUV o długości fali 11,2 nm, która ma obejmować okres do 2037 roku. Projekt zakłada trzy etapy rozwoju – od budowy maszyny zdolnej do pracy w litografii 40 nm w 2026 roku, aż po systemy sub-10 nm w latach 2033–2036. Za opracowanie planu odpowiada Instytut Fizyki Mikrostruktur Rosyjskiej Akademii Nauk, a sama koncepcja znacząco różni się od rozwiązań stosowanych przez ASML. Rosjanie nie chcą kopiować istniejącej architektury, ale oprzeć się na alternatywnych […] 







